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第128章 45纳米的光刻机（第1页）

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不过我们要做要的是正确认知自己，真正做到知耻而后勇！

相信在未来的不久，我们一定可以追上所有国家的科技，把他们远远甩在后边，成为最强的科技国家，掌握最先进的技术，生产最先进的仪器设备。

万国来朝！

一片繁荣的景象！

大家都知道芯片是在硅晶圆片上制作的，我们拿着制作好的硅晶圆片在上边涂抹上光刻胶。

在光刻胶的上方会有一个掩膜，光刻机释放出来的紫外光线透过掩膜照射到光刻胶上。

在掩膜上边印有预先已经设计好的电路线图。

光刻机的作用就是透过掩膜的缝隙，融化下边的光刻胶，使得光刻胶形成了和电路线图一模一样的图案。

听起来是十分的简单，但是……它的精度是纳米级别的，直接说纳米级别的不容易让人理解，人们也不容易想象出来纳米级别的到底有多小。

那就打个比方吧，头发丝大家都知道，纳米级别的就是一根头发丝的五千分之一这么细！

就是这么细！

而光刻机的镜头误差不能超过两纳米！

不仅仅镜头的精度要求高，还有机械精度要求也是非常高，纳米级别的，误差同样不能超过2纳米！

这里说的机械精度就是指光刻机的两个同步工作台，一个是盛放底片的，也就是硅圆片，一个是放掩膜的，两个要同步移动！

当然了精密高仅仅是光刻机的第一个要求，还有着其他要求，比如光源问题！

光刻机里边蕴含着光学系统也是复杂到了极点，现在最先进的就是极紫外光，全世界掌握这种技术的也就仅仅米国掌握了！

现在我们国家能自己生产的、可以实现量产的、最先进的光刻机也就是长城微电子设备公司制造的光刻机！

是600系列的光刻机，最高能实现90纳米的的生产工艺！

90纳米！

而外国的已经可以实现5纳米了！

可以看出来差距非常大，中间隔着好几代的差距！

需要我们迎头赶上！

对于光刻机的精度，90纳米是一个难关，45纳米是一个难关，22纳米又是一个技术门槛……

虽然我们最先进的国产技术仅仅能生产90纳米的光刻机，但是并不代表我们的企业只能生产90纳米的芯片，其实中芯国际已经能做到了生产14纳米工艺的芯片了，而且还是量产。

如果不计成本，我们甚至可以做到趋近于7纳米制造工艺的芯片，当然了这里的前提是不计成本！

一句不计成本包含了多少的无奈！

这里王昊天想要制作属于自己的光刻机，那么他的终极目标肯定是5n纳米的，甚至是更高端的。

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