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第23章 升级完成华国第一台EUV光刻机问世（第2页）

【物品：ASML第四代ArFi光刻机】

【光源波长：193纳米】

【经验值：1505100（可升级）】

【技能点：132】

没有任何的犹豫，直接选择升级。

【请宿主选择升级的部位：1、光源系统】

【2、反射系统】

【3、工作台系统】

【4、其他】

通过这几天的学习，杨晨对于光刻机也有了一定的了解，知道光刻机最核心的部位还是光源系统。

第四代光刻机的光源波长是193纳米，而第五代的EUV光刻机直接升级至13.5纳米，光从数值上看就知道这里面的提升有多大了。

所以，杨晨的第一次升级，直接选择了“光源系统”。

又是熟悉的一幕，一道微光从光刻机上闪过。

随后，系统面板上的数值也发生了变化。

【物品：ASML第四代ArFi光刻机】

【光源波长：13.5纳米】

【经验值：1405200（可升级）】

【技能点：132】

……

“再升级！”杨晨下达命令。

【请宿主选择升级的部位：1、光源系统】

【2、反射系统】

【3、工作台系统】

【4、其他】

“工作台系统！”

第四代光刻机和第五代一样，都是双工作台，分别是测量平台和曝光平台，不过EUV光刻机对于移动平均偏差、移动标准偏差等数值的要求更高一些。

【物品：ASML第四代ArFi光刻机】

【光源波长：13.5纳米】

【经验值：1205400（可升级）】

【技能点：132】

……

“继续！”

“升级反射系统！”

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【物品：ASML第四代ArFi光刻机】

【光源波长：13.5纳米】

【经验值：805800（可升级）】

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