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第211章 国产芯片的难处（第2页）

我们现在坐在这里，不也是为了达成最终的合作吗？

只不过，这个过程肯定是有一定曲折的，俗话说，好事多磨嘛。

你们陈总，也没受啥委屈，刚不还和我那张哥据理力争嘛，硬气的很。

但是，和何兰的光刻机引进，我真的是求爷爷告奶奶了，结果，屁用没有。”

陈楚默听到孟寻吐了句脏话，也是摇头失笑道，能把这么一个儒雅的中年人，逼到这份上。

看来光刻机的问题确实让其很头疼。

“孟兄，你说的对，确实不一样，我们都是华夏企业，虽然有不同的利益诉求，但是本质上是血浓于水的。

打断了筋也连着骨头的！

你说呢？”

孟寻怔了一下，没想到陈楚默

下面先别看，还在码

ASML为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，比如英特尔（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、台积电（TSMC）、中芯国际（SMIC）等。

ASML的产品线分为PAS系列、AT系列、XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源为高压汞灯光源，现已停产；AT系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是XT系列以及NXT系列，为ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而NXT系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。

TWINSCAN系列

TWINSCAN系列

目前已经商用的最先进机型是TwinscanNXT1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。

ASML正在加紧研制基于极紫外（EUV）光源的新型光刻机，型号定为NXE系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。

除了目前致力于开发的TWINSCAN平台外，ASML还在积极与IMEC，IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TWINSCAN平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。07年末三星（Samsung）宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。

市场份额编辑

目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：ASML、尼康（Nikon）和佳能（Canon）。根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额。而最高端市场（例如沉浸式光刻机），ASML大约目前占据80%的市场份额。不过，竞争对手尼康也在奋力追赶，主要优势在于相对较低的价格。

对华合作编辑

ASML一直致力于中国市场的拓展与合作，包括香港在内目前已经在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司，为客户提供及时的服务和咨询。随着公司业务的扩大和中国半导体产业的发展，相信大连、成都、重庆、武汉等新兴的半导体基地也会纳入ASML的版图之内。ASML有信心和中国半导体从业者一道，为技术创新和市场拓展开辟道路。目前ASML已经与浙江大学、大连理工大学、哈尔滨工业大学、上海交通大学等著名高等学府签定奖学金及科研合作协议，为培养本地人才，做出自己的一份贡献。

2020年10月，阿斯麦光刻机在中国大陆地区大大小小装机有700台，2020年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总台数的20%。[3]

2020年第三届进博会上，光刻机巨头ASML也参展了，并且还在自己的展台上晒出展示了光刻机。[4]

所获荣誉编辑

2019年10月，位列2019福布斯全球数字经济100强榜第50名。[5]

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