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对于星辰的猜测,晨晨没有回答,是因为,自己这个目标并不明确。
因为在地球当前的政治格局下,即便是自己想要去做,有很多东西也是无法完成的。
在一个没有统一政府的星球上,如何进行下一阶段的文明推进,陈晨没有想过的经验。
所以暂时只能走一步算一步。
陈晨和星辰商议决定之后,星辰用了大约3个小时的时间,把处理器和基带等其他功能模块,全部整合完成,并且进行了多次模拟测试,确保完全没有任何问题。
然后把所有资料,还有一整套的5g通讯标准文件,一起发给了陈建生,让他找时间,把处理器交给intel生产,然后拿着5g通讯标准,去准备参加今年的通信行业大会。
一般来说,一家芯片代工厂,从客户那里获得一个芯片生产订单开始算起.
需要在60天内为该客户生产完所有硅片,这些硅片经过封装和测试等环节后,大约又需耗时一个月。
也就是说,从开工到出厂,至少需要80~90天。
时间是有些长,主要是因为,目前所用的,成熟的光刻机193i,已经用了很多年了,本身精度非常低,要用来生产14nm的芯片,需要就过多重复杂的技术增加精度。
传统工艺,做到10nm,已经基本上是极限了,想要继续下探,到7nm、5nm,就必须换新技术。
这个新技术,也就是intel、三星、台积电,都在等着euv极紫外光刻技术。采用波长13.5nm的极紫外光为工作波长的投影光刻技术
因为更高的精度,可以大大减少工艺流程和复杂度。
所以如果euv光刻技术能够成熟,并且投入量产,芯片的生产时间,将会大幅缩短,产品良率也会提高很多。
按照现在的预计,使用euv技术的工厂,最快可以做到20多天出厂,时间只有传统光刻技术的四分之一。
但是目前evu技术并没有成熟,仍然有多个关键问题没有解决。
intel、三星、台积电半导体三巨头,投了巨额资金,给全球顶级的光刻机厂家asml,用来开发euv技术,以期维持半导体行业的持续发展。
euv技术是延续摩尔定律,让7nm、5nm工艺,成功量产的希望。
而且,euv技术,也是东华国内半导体制作技术,实现弯道超车的机会,超越国际的难得机会。
在传统工艺上,东华已经难以超过西方了,即便是超过,也马上就要过时,只能用来生产低级芯片。
东华在上个世纪九十年代,就开始进行euv相关方面的研究。
2002年,研制出国内第一套euv极紫外光刻原理装置。
2008年,在中科院的主导下,已经多家高校和科研机构参与到研究中,
2017年,euv极紫外光刻关键技术研究,已经到了最后攻关阶段,即将进行项目验收。
实际上,这个时候,单纯的在euv的光刻机技术上,是东华和国际最近的一次,已经几乎在同一代以内了。
而且关键是,但凡国内搞技术攻关,必然是要做一整套的技术。
包括生产过程中用的各种材料与设备,都会进行整体的技术攻关,因为不自己弄,其他的设备和工艺,没有人会卖给你。
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